國家重點研發計劃重大科學儀器設備開發項目“超光滑表面無損檢測儀”研制工作，10月9日在成都啟動。未來其將廣泛用于微電子集成電路、太陽能電池基片，及大型高功率固體激光系統、空間光學系統等設備檢驗檢測。

在集成電路、半導體等微電子芯片的基片制造，及激光器、空間望遠鏡等現代大型光學工程領域，超光滑表面無損檢測設備就像一把“光學卡尺”，能夠通過對彎曲度、表面質量等關鍵參數測量，極大提升我國上述領域的制造水平。由成都太科光電牽頭研制的“超光滑表面無損檢測儀”，將用于非透明物體超光滑表面，以及具有多層超光滑平行反射面透明物體的納米級表面形貌高精密測量，其測量面積達到Φ150mm，測量精度達到1毫米至700微米。“較大檢測面積和非接觸式精準測量，是該設備的最大特點。”成都太科光電總經理趙智亮說，在納米級材質的芯片檢測中，任何接觸都可能造成損傷，新儀器將以光學測量為基礎，采用多表面分離算法，實現非接觸式無損測量。同時，它還能在大型高功率激光系統、極紫外光刻、航空航天空間光學領域的大口徑元件面形、材料特性等參數測量領域發揮作用。（記者 盛利）

我國計劃自主研制納米級“光學卡尺”

圖文簡介